本書聚焦半導體材料和后摩爾新材料的太赫茲（THz）發(fā)射光譜技術，介紹THz發(fā)射光譜技術的原理、發(fā)展進程以及系統(tǒng)應用，展示 THz 發(fā)射光譜技術應用于集成電路領域的巨大價值，旨在為實現(xiàn)集成電路先進制程提供技術支撐和解決問題的思路。 本書主要內容包括半導體THz發(fā)射光譜起源、光學THz發(fā)射光譜物理基礎、光學THz輻射實驗技術、Ⅲ-Ⅴ族半導體驅動THz輻射、二維材料THz輻射、拓撲量子材料THz輻射、磁性材料THz輻射和激光THz發(fā)射顯微鏡。 本書主要面向物理學、化學、材料科學等領域的科研人員、研究生，以及對THz技術感興趣的讀者。